GP-L600-324K 4K Ultra HD metallurgiskt mikroskop för waferinspektion är ett metallurgiskt mikroskop för waferinspektion av forskningskvalitet med 4K Ultra HD. Den antar en oändlighetskorrigerat optiskt system, med en valfri Nomarski DIC-modul för att detektera nanoskala ythöjd variationer. Instrumentet stöder observation av ljusfält och polariserat ljus. Den trinokulära porten underlättar kamerainstallation och anslutning till metallurgisk analysmjukvara. Den är lämplig för arbetsflöden inklusive metallografisk forskning, halvledarinspektion och materialfelanalys.
Detta 4K Ultra HD metallurgiska mikroskop för waferinspektion är lämpligt för mikroskopisk observation av metallografiska mikrostrukturer och ytmorfologi. Det fungerar som ett idealiskt forskningsverktyg för metallurgi, mineralogi och precisionsteknik.
| Punkt | Beskrivning |
| Produkt | GP-L600-324K Wafer Inspection Metallurgical Microscope med 4K Ultra HD |
| Kategori | Labbforskningsgradigt trinokulärt metallurgiskt mikroskop, kompatibelt med DIC-differentialinterferens, observation av ljusfält / mörkt fält / polariserat ljus |
| Kärnteknologier | Trinokulärt synkront visningssystem, integrerad belysning i flera lägen (ljusfält, mörkt fält, polarisator, differential-interferens-kontrast DIC), högprecision professionell metallurgisk objektivuppsättning, 4K ultra-HD CMOS-bildsensor, dubbla mätsystem (inbyggd bildskärm mätning + PC-mjukvara mätning), HDMI+Gigabit-LAN dubbelkanals signalöverföring, dubbellagring teknologi, öppen arkitektur som stöder tillgång till sekundär utveckling |
| Nyckelspecifikationer | Visuell förstoring: 50/100/200/500×; Elektronisk förstoring: 190/380/760/1900×; Dubbel utgång gränssnitt: HDMI + Gigabit-LAN-port; 4K-upplösning: 3840×2160; Endast manuell fokusering; Dubbla mätningar lägen: inbyggd exakt mätning + matchad PC-mjukvara mätning; Dubbla lagringslägen: U-disk lagring + lagring av datorprogramvara; Monitorterminal: dimensionsmätning, HD-bildförhandsvisning, fotoarkivering; PC-terminal: dimensionsmätning, fotolagring; Hela enheten stöder dockning för sekundär utveckling. |
| Typiska applikationer | Halvledare-wafer-fel-analys, metall-material metallografisk-inspektion, beläggning-tunn-film- mikrostruktur-observation, precisions-halvledarpaket-testning, avancerat-material-laboratorium- forskning, medicinsk-biomaterial-observation, mikro-defekt-detektering för elektroniska-komponenter |
| Tillverkare | Kunshan Gaopin Precision Instrument Co., Ltd. |
| Tillverkarens plats | Kunshan, Jiangsu, Kina (intill Shanghai) |
4K-kamera inbyggt trinokulärt hölje för samtidig visning via okular och monitor. Dubbelportsutgång via HDMI och Gigabit-LAN sänder ultra-HD mikrobilder i realtid.
Stöder DIC-, ljusfälts-, mörkfälts- och polariserat ljusobservation. 4-stegs förstoring, optisk 50-500X, max digitala förstoring upp till 1900X, vilket ger skarpa detaljer för inspektion av mikrofunktioner.
Dubbla koaxialfokusknappar parade med förstärkt linshylsa möjliggör stadig fokusering och minimerar bilden skakar.
Tjockt integrerat metallstativ och scenfäste sänker tyngdpunkten och håller mikroskopet stabilt under tiden lång-timmars inspektion av forskningsgrad.
Modulär optisk layout med styv metallkropp, väl lämpad för laboratorier, forskningsinstitut och halvledare tillverkningsanläggningar.
Optimerad för wafer-and-chip-inspektion; också allmänt använd för halvledartestning, metallografisk analys, material-forskning och precision-kvalitets-utvärderingsarbete.
4K-foto- och videoinspelning, dubbla mätlägen (inbyggd på skärmen + PC-programvara). Dubbellagring via U-disk & dator. Skärpedjupsyntes och bildsömnadsfunktioner körs uteslutande på stödjande PC-programvara. Sekundär-utveckling är stöds över LAN-port för bildarkivering, jämförelse och avancerad analys.
1. Optiska observationslägen:Stöder multilägesoptik inklusive DIC, ljusfält, mörkt fält och polariserat ljus för observation av kristall- och beläggningstextur. Vanliga metallurgiska mikroskop ger bara grundläggande ljusfält och kan inte visualisera ultratunna lager och kristallmikrostrukturer.
2. Bildsystem:Inbyggd 4K ultra-HD-kamera, synkroniserad okular- och bildskärmsvisning. Vanligt metallurgiska mikroskop använder lågupplöst 2K-kamera, endast okularvisning med förvrängd hög förstoring utgång.
3. Förstoringsjustering:Fyra växlars förstoringsområde från 190-1900X, som täcker makroöversikt och mikrodetaljinspektion. Vanliga metallurgiska mikroskop har färre förstoringsväxlar och suddiga bilder vid hög effekt.
4. Mätning och registrering:Inbyggd exakt mätning på bildskärmen med foto-videoinspelning förmåga. Vanliga metallurgiska mikroskop har inga ombordmätningar och kräver PC-mjukvara för all analys och arkivering.
Halvledare och mikroelektronik (Core DIC Application):
Kiselwafers, litografiskivor, IC-chips, PCB, FPC-flexibla kretsar, lödfogar, förpackningskomponenter.
Inspektionsmål: spånyttopografi, wafer-etsningsmönster, nano-repor, kalllödningsfogar,
oxidation och stiftdeformation. Differential-Interference-Contrast (DIC) framhäver subtila yt-höjdskillnader
för observation av mikrokretsskivor inom 190-1900× förstoringsområde.
Metallografiska metallexemplar:
Legerade metallografiska sektioner, stål, precisionsstämplad metallbeslag.
Inspektionsmål: metallkornstruktur, värmebehandlingsanalys, mikroytsprickor, kantflisning, fina grader,
slitagespår och inre materialföroreningar. Ljusfält / mörkt fält / polariserat ljus lägen för metallkristall
strukturobservation.
Laboratorieprover: Kristall, pulver, fiber och tunnfilm:
Kemiska kristaller, metallpulver, kolfiber, optiska beläggningsfilmer.
Observera kristallmorfologi, partikelkonturer, filmdelaminering och mikrobeläggningsstrukturer; polariserat ljus
identifierar kristallpolarisationsegenskaper.
Optoelektroniska och precisionsplastkomponenter:
LED-chips, optiska linser, glassubstrat, halvledarförpackningslim.
Upptäck mikroporer, nano-repor, limdelaminering, bubblor, fläckar och subtila ytojämnheter.
Högprecisions miniatyrkomponenter:
Kontaktdon, terminaler, mikrofjädrar, små stämplade arbetsstycken.
4K-pixelnivå noggrann mätning för gap, håldiametrar, stigning och ythöjdsskillnader; DIC visualiserar
subtil krimpdeformation.
University Labs & High-End Semiconductor QC:
Materialforskningsexperiment, inspektion av inkommande varor av wafer, observation av metallografiska prover; foto-video
arkivering, exportera QC-rapporter med exakta mätningar via ansluten PC.
Mekanik:Helmetallkonstruktion för hög styvhet och vibrationsmotstånd. Precision grovfinfokusering utan bakslag. Högprecision manuellt XY-mekaniskt steg med lågt slitage och minimalt godkännande. Trinokulär optisk bana bibehåller optisk saminriktning vid byte av objektiv.
Optik:Oändlighetskorrigerade planakromatiska metallurgiska objektiv med anti-im hård beläggning. Transmitterad reflekterad 12V-100W halogenlampa belysning.
Avbildning och mätning:8,3-megapixel 4K industriell CMOS-kamera. Dubbel utgång: HDMI + Gigabit-LAN port, bra anti-interferensprestanda för industriell miljöanvändning. Stöder inbyggd mätning på monitorn och PC-mjukvara mätning. Dubbelvägslagring via U-disk och PC-mjukvara. Skärpedjupsyntes och bildsammansättning endast tillgänglig på PC-programvara. Sekundärt utvecklingsgränssnitt tillgängligt över Gigabit-LAN.
Utrustad med inbyggd 3840*2160 4K-bildbehandling. Lämplig för metallografisk analys, spånkretsinspektion och generering av professionella testrapporter, som tydligt avslöjar metallkorn, mikrorepor och små mikrodefekter.
Design med manuell fokus, lämpad för statiska laboratorieprover och lågfrekvent byte av arbetsstycke. Stabil finjustering rattar för långvarig exakt observation av statiskt prov.
Standard manuellt rörligt steg och vertikal trinokulär metallurgisk optisk bana för spånskivor, små-medelstora PCB och metallexemplar, som effektivt dämpar reflekterande bländning för metallografisk inspektion.
Dubbelt förstoringsområde: 50-500X optisk förstoring, 190-1900X digital förstoring. Täcker båda hela exemplaren översikt och kontroll av mikrokorn / mikrodefekter.
Stöder inbyggd mätning på enheten och mätning av PC-programvara. Utrustad med HDMI + Gigabit-LAN-port. Foton, videor och mätdata kan sparas via kompatibel U-disk eller dator. Sekundär-utveckling stöds för produktionslinjeintegration och labb-data-spårbarhet.
Neutral förpackningsförsändelse är tillgänglig på begäran.
| Modell | GP-L600-324K |
| Upplösning | 3840×2160 |
| Riktigt effektiva pixlar | 8 300 000 pixlar |
| Fokuseringsmetod | Manuell fokusering |
| Optiskt format | 1/1,7" |
| Pixelstorlek | 1,85 μm × 1,85 μm |
| Utdatametod | HDMI + Gigabit Ethernet LAN-port |
| Detaljerade funktionsintroduktioner som motsvarar varje utgångsgränssnitt | ① HDMI ansluts till 4K-kompatibla skärmar. Inbäddad professionell bildbehandlingsfirmware-stöd
fotoinspelning, videoinspelning, dimensionsmätning, bilduppspelning och bildjämförelse, manövrerad
med musen i realtid. ② Gigabit LAN-port ansluter till routrar, switchar eller datorer för nätverk bild överföring. Datorer inom samma nätverkssegment kan ta emot video i realtid och utlösa infångning via matchande programvara. |
| Bildhastighet | HDMI: 60fps @3840×2160 Gigabit LAN: 20fps @1920×1080 |
| Djup-of-field-syntes | / |
| Bildsömnad | / |
| Mätmetod | Inbyggt on-monitor mätsystem + PC-mjukvara mätning |
| Mätnoggrannhet | 0,001 mm |
| Måttenheter | mm / μm / mil / tum (4 omkopplingsbara enheter) |
| Mätverktyg | Längd, vinkel, radian, cirkel, polygon, polylinje, centrum-till-centrum-avstånd, rektangel, anteckning lägga till, automatisk kantdetektering, skalningsfält med mera |
| Förvaringsmetod | U-disklagring + PC-mjukvara lagring |
| Visningsspråk | Förenklad kinesiska / engelska (växlingsbar) |
| Processor | ARM Cortex-A17 Quad-Core @ Max 1,4 GHz huvudkontrollprocessor |
| Operativsystem | Oberoende utvecklad mätfirmware baserad på Linux 3.1 kärna |
| Namngivning av bild | Automatisk eller manuell namngivning tillgänglig |
| Betraktningshuvud | 30°-lutande trinokulärt huvud av gångjärnstyp; inställningsområde mellan pupillerna: 54-76 mm; två stråldelare förhållanden: 100:0, 0:100 |
| Observationslägen | ★ Ljusfält / Mörkfält / Polariserat ljus / DIC (DIC-hårdvara är tillval) |
| Belysningssystem | Transmitterat reflekterat fallljusbelysningssystem, 100-240V bredspänningsingång, justerbar filament mitten, steglöst justerbar ljusintensitet. |
| Stå | ① Transmitterat reflekterat stativ med dubbla ändamål; låg handposition koaxial grovfinfokuseringsmekanism.
Grovjusteringsslag: 33 mm; finjusteringsnoggrannhet: 0,001 mm. Utrustad med låsning och begränsning
enheter. ② Ljusfälts- och mörkfältsreflektor med variabelt bländarstopp, fältstopp och justerbar mittenhet. ③ Interferensfilter och färgbalanseringsplatta (vitt ljus) för reflekterat ljus optisk väg. ④ Växlingsanordning för ljus-mörkerfält; fack för färgfilter och polariserande tillbehör. |
| Mekanisk scen | 4-tums manuellt mekaniskt steg. Scendimension: 230 mm × 215 mm; X-Y rörelse: 105 mm × 105 mm. Glas provbärarplatta för både transmitterad och reflekterad observation. |
| Ljuskälla | 12V 100W halogenlampa kammare (reflekterat ljus); 12V 100W halogenlampa (genomsläppligt ljus). |
| Polariseringsfunktion | 30-graders polarisatoruttag (reflekterat ljus); 360° roterbart analysatoruttag för polariserat ljus observation. |
| Okular | Två PL10X/22 mm vidvinkelplanfältsokular med justerbar dioptri (ett okular med riktmedel skala). |
| Nosstycke | ★ Objektiv nosstycke med fem hål i ljusa mörka fält |
| DIC-funktion | Funktion för differential-interferens-kontrast; Tillbehör för DIC-inläggskort är valfria och ingår inte in standardkonfiguration. |
| Elektroniskt gränssnitt | 0,5X C-monterad kameragränssnitt, justerbar fokus; CTV 1X är tillval med prisskillnadskompensation. |
| Metallurgiska mål | ★ Ljusa-mörker-fält semi-destruktiva metallurgiska mål ① OLIPBD5NCA-DIC 5X/0.15, fungerar Avstånd: 9,00 mm ×1 st ② OLIPBD10NCA-DIC 10X/0,30, arbetsavstånd: 9,00 mm × 1 st ③ OLIPBD20NCA-DIC 20X/0,45, Arbetsavstånd: 3,40 mm ×1 st ④ OLIPBD50NC 50X/0,55, arbetsavstånd: 7,50 mm × 1 st ⑤ OLIPBD100NC 100X/0,80, Arbetsavstånd: 2,10 mm (tillval, ingår inte i standardpaketet) |
| Optisk förstoring | 50X, 100X, 200X, 500X (omkopplingsbar i fyra nivåer) |
| Elektronisk förstoring | Ca. 190X, 380X, 760X, 1900X (omkopplingsbar i fyra nivåer); valfritt förstoringsområde: 380-3800X. |
GAOPIN-mikroskop används av ledande företag, forskningsinstitut och universitet. Vårt samarbete relationer inkluderar:
Tianjin University of Commerce – Material-laboratorie-undervisning, mikrobildbehandling och experimentell-data-arkivering
Jiangsu Bigao Electromechanical Equipment Co., Ltd. – Dimensionell och mikrofelsdetektering för precisionsbearbetning delar
AVIC Optronics Technology Co., Ltd. – Precisionskontakt och komponentinspektion
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, CAS – Advanced-optical-research & optisk-komponent-karakterisering
Xi'an Jiaotong University – Avancerad-materialvetenskap och precisionsoptik experimentell-observation
Shanghai Institute of Ceramics, CAS – Mikroanalys av oorganisk keramik och nyenergimaterial
Kunshan Gaopin Precision Instrument Co., Ltd. grundades officiellt 2011. Vårt grundarteam ackumulerades djupt rotad expertis inom optisk inspektion-instrumentering som går tillbaka till 2005. Vi är ett teknikfokuserat företag levererar helcykeltjänster som omfattar design, FoU, global försäljning och eftermarknadsstöd för industriella mikroskop. Vår kärna ingenjörsteamet har mer än tio års specialiserad erfarenhet av optisk-instrument-utveckling för att säkerställa beprövad-stabil-teknik och konsekvent-tillförlitlig kvalitet.
GAOPIN har en omfattande produktkatalog med över hundra optiska instrumentmodeller för hela världen kunder. Vi utvecklar flexibla, kostnadseffektiva skräddarsydda mikroskopilösningar för olika industriella inspektioner och laboratorieforskningskrav.
Snabbsvars global teknisk support är tillgänglig för utländska kunder, inklusive onlinemöten, steg-för-steg-videovägledning och distansträningssessioner. Vår tillverkningsbas ligger i Kunshan, Jiangsu provins (nära Shanghai). På plats-fabriksbesök och virtuella-online-turer är välkomna. Vänligen kontakta vårt säljteam för autentiska prov-testbilder tagna med detta Wafer Inspection Metallurgical Microscope med 4K Ultra HD till utvärdera verklig bildprestanda.
A1: Utrustad med dubbla gränssnitt för HDMI-högupplösningsutgång och LAN-port. Den stöder realtidsavbildning av anslutning till en bildskärm direkt, och datoranslutning via nätverkskabel. Utan USB och WIFI-gränssnitt, det stöder både självständig drift och datorsamarbete.
A2: Den stöder 4K ultra-HD foto- och videoinspelning. Filer kan sparas på FAT32-formaterad U-disk inom 32 GB kapacitet eller datorlagring. Stöder exakt mätning på både skärm och PC-programvara, med datasparande och rapport-exportfunktioner.
A3: Kontrollera strömförsörjningen och matchande adapter; fäst HDMI-kabeln ordentligt; byt bildskärm till rätt HDMI-signalkälla; starta om enheten för att lösa fel med svart skärm och ingen bild.
A4: Detta är en modell med manuell fokus. Justera långsamt fokushandratten för skarp bild. Lås objektivlinsen ordentligt, lägg prova platta och rengör regelbundet linsdamm och fläckar.
A5: Se till att mikroskop och PC är inom samma IP-segment; inaktivera brandvägg och avlyssningsprogramvara; sitta om nätverkskabel; starta om enheten och stödjande mätprogramvara för att upprätta normal anslutning.
Adress
Byggnad 2, Shuanglian International Business Center, Huaqiao Town, Kunshan City, Kina
Tel
E-post
